| Status | 已发表Published |
| Title | 正交设计的最新发展和应用(IV)—正交设计的投影性质 |
| Creator | |
| Date Issued | 1999 |
| Source Publication | 数理统计与管理
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| ISSN | 1002-1566 |
| Volume | 18Issue:5Pages:35-43, 50 |
| Abstract | 一个试验有ｋ 个因素，每个都有ｑ 个水平，若用正交表 Ｌｎ （ｑｓ）（ｓ＞ ｑ）来安排，是否取 Ｌｎ（ｑｓ）中的任意ｋ 列都有相同效果呢？ 这方面的性质称为正交表的投影性质，这些性质对正交表的使用有指导作用。本讲介绍部份正交表的投影性质以及均匀性在其中的应用。 |
| Keyword | 正交设计 均匀性 同构 D-效率 |
| DOI | 10.13860/j.cnki.sltj.1999.05.008 |
| URL | View source |
| Indexed By | 中文核心期刊要目总览 ; CSSCI |
| Language | 中文Chinese |
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| Document Type | Journal article |
| Identifier | http://repository.uic.edu.cn/handle/39GCC9TT/5201 |
| Collection | Research outside affiliated institution |
| Affiliation | 1.中国科学院应用数学所, 北京100080 2.香港浸会大学数学系 3.南开大学数学系, 天津300071 4.沈阳建筑工程学院管理工程系, 辽宁 沈阳 110015 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 方开泰,马长兴,李久坤. 正交设计的最新发展和应用(IV)—正交设计的投影性质[J]. 数理统计与管理, 1999, 18(5): 35-43, 50. |
| APA | 方开泰, 马长兴, & 李久坤. (1999). 正交设计的最新发展和应用(IV)—正交设计的投影性质. 数理统计与管理, 18(5), 35-43, 50. |
| MLA | 方开泰,et al."正交设计的最新发展和应用(IV)—正交设计的投影性质". 数理统计与管理 18.5(1999): 35-43, 50. |
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